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News Center小型蒸鍍儀在材料科學和工程領域中發揮著重要作用，廣泛應用于微電子、光電子、材料科學等領域。熱蒸發是一種將固態材料迅速加熱并使其轉變為蒸汽的過程。固態材料(如金屬或非金屬)被放置在加熱源中，當加熱源加熱到一定溫度時，該材料開始蒸發。蒸發的材料蒸汽在真空環境中自由擴散，并沉積到待鍍物表面形成薄膜。小型蒸鍍儀常見的應用領域：1.微電子工業：在微電子工業中用于制備集成電路、半導體芯片和顯示器件等。通過在基板上沉積金屬薄膜或半導體材料，可以實現電路的連接和器件性能的改善。2.光電子工業...
【新品發布】——突破極限，1000°高溫探針臺震撼上市！我們非常榮幸地宣布推出全新的1000°高溫探針臺。這款產品是我們經過不懈努力和持續創新的成果，將為您在高溫實驗領域帶來了全新的體驗。1000度高溫真空探針臺（High-TemperatureVacuumProbeStation）主要應用于半導體、材料科學、納米技術、光電子、薄膜技術等領域，具有以下用途：1.半導體器件測試與表征：用于不同溫度下的半導體料件、電子器件和光電子器件的性能測試和分析。2.材料性能表征：研究和測試...
小型濺射儀是種常見的表面處理設備，其原理是利用高能離子束轟擊固體材料，以改變其表面性質。主要由濺射靶、工作室、真空系統、控制系統等組成。其中關鍵的部分是濺射靶和工作室。濺射靶材料是由所需要改變其表面性質的物質組成，如金屬、陶瓷等。工作室是一個真空環境，用于避免氧氣、水蒸氣等對濺射過程的干擾。在工作時，首先需要將工作室抽成高真空狀態。通過真空泵抽取工作室內的氣體，減少對離子束的干擾。接下來，將濺射靶放置在工作室內，并將需要處理的物體(如基板)放在靶的正對方向。然后，靶與工作室中...
等離子刻蝕機是通過將氣體放電產生等離子體，利用等離子體中的能量來刺激表面上的分子和原子，從而實現清洗和刻蝕的。具體來說，主要包括以下幾個部分：真空腔體、氣體供應系統、放電系統和噴射系統。首先，在真空腔體內建立高度的真空環境，這是因為等離子體只能在真空環境中穩定存在，而且真空環境可以減少雜質對刻蝕過程的干擾。然后，氣體供應系統會向真空腔體內注入一定比例的工作氣體和反應氣體。工作氣體一般是沒有參與反應的氣體，例如氬氣或氮氣，而反應氣體則是用于反應的氣體，例如氟元素或氯元素。這樣的...
“2023全國天線年會”將于2023年8月20日至23日在哈爾濱召開，會議的目的是為天線技術領域的專家學者、研究生、工程技術及管理人員提供一個交流學術、科研成果及技術最新發展的平臺。熱忱歡迎從事天線理論研究、技術開發、裝備生產與應用的專家學者、研究生和技術人員積極投稿并參會。會議期間將同時舉辦天線、微波儀器與設備、電磁兼容、電磁場仿真軟件等產品的展覽。本次我們展覽的產品是小型直流磁控濺射儀和一英寸真空探針臺。
氣體溫度控制儀是用于控制氣體溫度的設備。它可以測量氣體的溫度，并根據設定的溫度來控制加熱或制冷設備，從而實現對氣體溫度的準確控制。主要包括傳感器、控制器和執行器三部分。傳感器是用于測量氣體溫度的關鍵組件。傳感器一般采用熱電偶或熱電阻等技術來測量氣體的溫度。它們都是基于物質的溫度特性來工作的。當氣體溫度發生變化時，傳感器會產生相應的電信號。控制器是用于處理傳感器信號并根據設定的溫度來控制執行器的部件。控制器一般采用微處理器或PLC等技術來實現。它通過對傳感器信號進行處理和比較，...
高低溫鼓泡罐是種常見的實驗儀器，主要作用是控制溶液的溫度，使反應物在適宜的溫度下發生反應，提高反應效率。利用外部的加熱和冷卻裝置來調節罐內的溫度。罐體通常由耐熱材料制成，內部設有加熱器和冷卻器。加熱器可以通過電熱棒或加熱管等方式向罐內加熱，而冷卻器則通過循環水或液氮等冷卻介質來將罐內溫度降低。它的結構和使用方法相對簡單，但在實驗過程中需要注意控制溫度的升降速度。既可以用來進行高溫反應，又可以用來進行低溫實驗，為科研工作提供了便利。在實驗室中有著廣泛的應用。它可以用來進行高溫反...
Plasma清洗機是一種用于對設備、物料進行清洗的機器。在工業生產中，由于設備和物料的使用，會產生各種污漬和垢層，如果不及時清洗，會影響設備的使用壽命和生產效率。清洗機的出現，實現了自動化清洗，減少了人工操作，提高了清洗效率和清洗質量。其工作原理主要分為以下幾個步驟：預處理：將被清洗物料放入清洗機內，進行加熱、蒸發等預處理工作，使污漬或垢層變得容易被清洗。清洗：將清洗液噴灑到被清洗物料上，通過噴淋或噴射的方式，清洗液可以深入物料表面，將污漬或垢層清除。沖洗：將清洗液沖洗掉，并...
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