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三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜。儀器結構緊湊，全自動控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術，進行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究，對于指導薄膜傳感器工藝設計及應用的快速發展，具有十分重要的理論意義及較好的工程應用價值。

小型離子濺射儀 鄭州 科探KT-Z1650PVD在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發生彎曲甚至產生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。

小型濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。

小型離子濺射儀 鄭州科探儀器 噴金儀 廠家供應通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜

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