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此款單靶磁控濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，設備配有微量充氣閥調節工作真空，在 20Pa 真空保護。同時，配有進氣口和微量充氣調節裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體...

KT-F110S 高真空排氣臺無油渦旋分子泵機組是一臺清潔的高真空獲得設備。此設備是根據真空知識原理，利用機械泵、渦輪分子泵組合成的真空獲得系統，具有啟動時間快、真空度高、操作方便等特點。廣泛應用于表...

氣敏材料測試真空加熱腔體主要應用于半導體行業、光電行業、集成電路以及封裝的測試。廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發時間和器件制造工藝的成本

手動氣體流量配比器可以外接3或多種氣體,采用質子型流量計,氣路管道采用316拋光管制作耐腐蝕性強.氣路接頭采用全不銹鋼雙卡套快速接頭,方便連接且不易泄漏.

KT-Z1604T真空探針熱臺主要應用于傳感器，半導體，光電，集成電路以及封裝的測試。 廣泛應用于復雜、高速器件的精密電氣測量的研發，旨在確保質量及可靠性，并縮減研發時間和器件制造工藝的成本。

CS系列數字式質量流量控制器數字式質量流量控制器.高精度型,快響應型,數字型,低零漂及溫漂型,抗電磁干擾

本1650真空加熱腔 快速升溫爐為桌面式高溫真空加熱臺。用于少量樣品功能陶瓷，光學材料，碳復合材料，硬質合金，粉末冶金等在高溫條件下進行燒結處理，也可用于對樣品高溫真空環境的電信號測試。

KT-Z1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均...

真空加熱臺腔體設備特點:本真空樣品加熱臺腔體為桌面式高溫。用于少量樣品功能陶瓷，光學材料，碳復合材料，硬質合金，粉末冶金等在高溫條件下進行燒結處理，也可用于對樣品高溫真空環境的電信號測試。

KT-S2DQX型真空等離子清洗電源屬于150W 13.56MHz的射頻電源。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼...