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鄭科探 分子泵控制器廣泛應用于表面分析、加速器技術、等離子體技術、電真空器件制造及真空的各個領域。設備的具體組成主要包括真空測量系統、真空室、閥門及真空管路、電器控制系統等

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上海實驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應氣態放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學氣相沉積法具有氣相法的所有優點，工藝流程簡單，與傳統CVD系統比較，生長溫度更低，管輝光均勻等效，薄膜均勻沉積。